他们也没办法只在本国，就找到光刻机全部零部件的供应商，得全球多国合作协同才行。
而巨大的资源协调成本，更是会大大加重整个研发项目的费用和时间，
这也是华国的很多产品，能做到成本远低于国外厂商的主要原因之一。
总之，无论常春光所有没有突破EUV光源的技术，康驰都可以尝试着借用他的研发制造能力，来迅速获得一套可行的光源系统。
现在光刻的光有了，
下一步就是把光，通过一个光学系统，收集并投影到涂上了光刻胶的硅片上面。
这个光学系统，也是整台光刻机中，造价成本占比最大的。
这部分康驰准备对大秦光学的镜头生产线，进行升级，然后把它给拆了，直接获得光刻机镜片和反射镜制造，所需要的大部分设备零件。
这么做的效率无疑会高很多，
而且升级后的生产线，估计连解析项目都没有，
因为里面的大部分技术，康驰在解析光刻机的时候，就已经得到了，他本人拥有非常大的解释空间。
唯一的缺点就是，需要他在接下的项目中，进行一定的混淆视听，把这些拆分开的组件，神不知鬼不觉地掺到整个项目里去。
嗯，
就是欺负严辉他们对光刻机没啥研究，
到时候估计也是康驰让他们干什么，他们就干什么，思考空间并不多。
至于光刻机最后的一个关键系统，则是承载硅片的双工件台系统。
它的工作原理很简单，就是在光刻中不断的挪动硅片的曝光部位，但其中的技术含量其实非常大。
因为这个工作平台必须快、准、狠。
速度，决定了光刻机的效率，
移动太慢了，光刻机的产量就不行，
这就要求它，在高速移动后，还得迅速且精准地停下，
停留的位置误差，还得在1nm以内，
但凡偏差大一点，整个晶圆就直接报废了！
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